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第20届P&E首场技术研讨会——典藏艺术 - 摄影艺术品展望

地点:北京-朝阳区

时间:2017-04-21——2017-04-21

价格:¥0.00

结束

活动介绍

首届P&E“大美中国”华承为典藏艺术摄影展将于下周五(4月21号)正式开幕。来自全国36位优秀摄影师的60幅作品将由遍布全国的8家“华承为典藏艺术认证工作室”精心制作,以收藏级装裱呈现在国家会议中心。

作为世界三大摄影器材展之一和中国摄影界的年度盛会,P&E不仅是各大器材厂商发布新品的重要阵地,也是摄影文化集中展示的舞台,更是摄影技术和艺术发展交流的平台。第20届P&E组织了一系列的技术讲座和学术研讨。

第20届P&E首场技术研讨会——典藏艺术 - 摄影艺术品展望

【地点国家会议中心一号馆P&E官方演讲台

【时间2017年4月21日下午13:00-14:00

【出席嘉宾

焦延和先生

中国文化办公设备制造行业协会副理事长

梁达明先生

著名摄影家,第七届金像奖得主

第八届、第十一届金像奖评委

钟建明先生

著名摄影家,古典印相专家

南京艺术学院传媒学院教授

主持嘉宾:

李恩中先生

著名摄影家,策展人,大美摄影联合创始人

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