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P&E第一届“大美中国”华承为典藏艺术摄影展征稿启事

时间:2017-02-15作者:大美摄影网络来源:大美摄影

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P&E第一届“大美中国”华承为典藏艺术摄影展征稿启事

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主办单位:中国国际照相机械影像器材与技术博览会组委会

大美摄影  华承为数码科技有限公司

承办单位:大美摄影  华承为典藏艺术

 

1.展览介绍:

第二十届中国国际照相机械影像器材与技术博览会(以下简称“P&E”)同期开幕的P&E“大美中国”华承为典藏艺术摄影展是本届P&E的重要内容之一。展览以收藏级标准制作和呈现高水准的摄影创作,凸显影像的艺术表现力和感染力。同时,以其制作材料、工艺的艺术性和耐久保存性,赋予展览作品长期收藏的价值。“大美中国”华承为典藏艺术摄影展代表了国内影像输出和展览制作的高水准,是影像界高水准的艺术盛会之一。

第20届中国国际照相机械影像器材与技术博览会(China P&E)将于2017年4月21—24日在北京国家会议中心隆重举办,作为亚太地区及全球范围内,照相机械、影像设备全产业链有影响的品牌展会,本届展会将突出“影像无处不在”的主题,展品范围在原有照相机、镜头、器材、输出、打印设备的基础上融入手机影像、航拍摄影、运动摄影等新元素,充分展现影像行业发展的新思路、新境界,努力促进行业发展!

2.展览方式和作者权益:

本届展览以策展人约稿和自由投稿两种形式同步进行,经过专业评审委员会的评选,将展出60幅典藏摄影作品。全部展品由全国经过严格认证的专业影像工作室使用“华承为典藏艺术”、“铂金印相法”等高品质影像制作标准和方法进行作品的输出和展览制作,其中彩色作品和部分黑白作品采用收藏级数字艺术纸及“典藏艺术”喷墨打印输出,高品质黑白作品采用铂金印像法制作,全部采用铝合金典藏艺术相框装裱。每幅展品附作者简介(可标注作者联系方式)及作品描述。全部参展作品展后附精美包装归作者所有,如被有价收藏所得全部归作者。全部参展作品颁发参展证书。

3.征稿要求:

“大美中国”为主题的人文(纪实)、地理(风光)摄影作品均可,暂不收创意性作品。手机、相机、胶片、数码拍摄均可,一律以数字文件提交。黑白、彩色不限,但不得混投。必须在提交影像数字文件的同时,提交相关包括姓名、性别、民族、出生年月、联系方式和使用手机、相机及题名、拍摄地点、拍摄数据等。实名投稿,每位作者限投8幅,不收组照。

投稿人应保证对提交作品拥有独立、完整的著作权,不得抄袭和剽窃,谢绝由电脑合成或改变原影像的作品,含有暴力、色情、宗教禁忌等法律所不允许的内容的作品。还应保证提交作品不侵犯第三人的著作权、肖像权、名誉权、隐私权等在内的任何权利。

投稿人违反征稿要求引发的相关纠纷由投稿人自行承担,对展会和主办方名誉及经济利益造成损失的,主办方保留向投稿人追究法律责任的权利。

主办方对入选参展的作品享有以宣传为目的的使用权,包括展览、出版、报道、发表等活动,不再另付报酬,作者享有署名权。

凡投稿者视为其同意本征稿启事的所有内容。

征稿邮箱:tg@hap-china.com

4.时间计划:

征稿时间:2017年即日起至3月12日

专家评审委员会评审:2017年3月13日-19日

入选作品制作:2017年3月20日-4月10日

展览时间:2017年4月21日至24日

5.展览相关信息:

展览地点:北京国家会议中心(第二十届中国国际照相机械影像器材与技术博览会现场)

咨询电话:18611556333(策展人)  010-66008117


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